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矢作隆行 TAKAYUKI YASAKU

Picture 外国法事務弁護士(原資格国法:米国ニューヨーク州)
米国ニューヨーク州弁護士 
米国パテント・エージェント(現在登録抹消)
弁理士(特定侵害訴訟代理業務付記)


米国知的財産法実務をメインとする外国法事務弁護士(ニューヨーク州弁護士)。特許訴訟、ライセンス、カウンセリング、鑑定、出願実務を専門とし、半導体回路及びデバイス、電子機器、医療機器、材料技術、化学製品、医薬品など、幅広い技術分野での経験を有する。

1997年に早稲田大学大学院理工学研究科物理学及び応用物理学専攻を修了した後、7年間株式会社東芝の知的財産部にて半導体技術(メモリ、ディスクリート、プロセッサ、製造プロセス)に関わる特許権行使や特許出願実務などに従事。東芝在籍中の1997年に弁理士試験合格。東芝を退職後、ニューヨーク大学ロースクールを経て、2005年9月からオブロン法律事務所にアソシエイトとして2年間勤務。その間にニューヨーク州弁護士資格及び米国パテント・エージェント資格取得(米国パテント・エージェント資格については37 C.F.R. §11.9(b)に基づく限定承認で、日本帰国により現在は未登録)。その後Hogan & Hartson LLP(現 Hogan Lovells US LLP)のロサンゼルス・オフィス勤務、ホーガン・ロヴェルズ法律事務所外国法共同事業の東京オフィス勤務を経て、2015年9月に独立。

 1997-2004年 株式会社東芝にて、半導体技術の特許出願・係争業務を担当
 2005-2007年 Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C. 勤務
 2007-2010年 Hogan & Hartron LLP ロサンゼルス・オフィス等 勤務
 2010-2015年 ホーガン・ロヴェルズ法律事務所 外国法共同事業 東京オフィス 勤務
 2015年    矢作外国法事務弁護士事務所/矢作国際特許事務所 開設  
 1991年 早稲田大学高等学院卒業
 1995年 早稲田大学 理工学部 応用物理学科卒業
 1997年 早稲田大学大学院 理工学研究科 物理学及び応用物理学専攻修了(工学修士)
 2001年 法政大学法学部法律学科卒業
 2005年 ニューヨーク大学ロースクール卒業(LL.M.)  
・米国ニューヨーク州弁護士会
・東京弁護士会(外国法事務弁護士)
・日本弁理士会
・米国特許庁(米国パテントエージェント)(米国で就労時のみ/日本帰国後は登録抹消)  
・AIPPIソフトウエア特許研究会(2011〜)
・一般財団法人ソフトウェア情報センター(SOFTIC)判例研究会オブザーバー(2015〜)
・日本ライセンス協会(LES)米国問題WG(2016〜)  
・「知的財産権用語辞典」(共著:2002年日刊工業新聞社)
・「方法クレームのステップを複数当事者が分割して実施した場合の特許権侵害の成否について – Akamai事件大法廷判決(Akamai事件及びMcKesson事件)」(AIPPI(2013)Vol.58 No.1(2013年1月号))
・「米国特許法における介在権の概説」(知財管理 2013年12月)
・「方法クレームのステップを複数当事者が分割して実施した場合の特許権侵害の成否について – Limelight v. Akamai最高裁判決」(AIPPI(2014)Vol. 59 No.8(2014年8月号))
・「米国との比較による日本における特許権侵害訴訟についての雑感」(知財研フォーラム Vol. 102(2015年8月))
・「特許権の故意侵害に対する懲罰的賠償の適用要件を緩和する最高裁判決とその後」(知財管理 2017年1月)
・「[米国特許]特許適格性の判断手法と明細書の記載の参酌 - Amdocs (Israel) Ltd. v. Openet Telecom 連邦巡回控訴裁判所(CAFC)判決 -」(AIPPI(2017)Vol. 62 No.7(2017年7月号))